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      您的位置:首頁  -  產品中心  -    -  研磨分散機  -  GMD2000/4硫酸鋇溶液中試型研磨分散機

      硫酸鋇溶液中試型研磨分散機

      硫酸鋇溶液中試型研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

      • 產品型號:GMD2000/4
      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新時間:2024-09-16
      • 訪  問  量:1749
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      聯系電話:021-67898912

      產品詳情

      硫酸鋇溶液中試型研磨分散機,硫酸鋇溶液研磨分散機,硫酸鋇溶液膠體磨,硫酸鋇溶液研磨機,硫酸鋇研磨分散機

            

      SGN硫酸鋇溶液中試型研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

       

      硫酸鋇,適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末,密度4.25-4.5,分解溫度>1600℃。溶于熱濃硫酸,幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性。
          

      對于硫酸鋇溶液的生產,目前許多廠家采用國產膠體磨生產,由于國產膠體磨本身轉速較低為2930轉,生產出來的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右,而且生產效果很低,需要研磨5-6小時。而使用SGN研磨分散機進行處理,研磨兩遍,粒徑可以細化到5μm,效果好,效率高。

           

      研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果,研磨分散機是一臺目前型的研磨分散設備

            

      硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設備SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

       

      上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。

      的特點

      線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

      定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

      在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

       

      設備其它參數:

      設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
      電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
      電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
      電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
      研磨分散機材質SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
      研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
      研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
      進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
      研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

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